半导体大题1

2023-09-22 17:32:26   文档大全网     [ 字体: ] [ 阅读: ]

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半导体
1)已知硅具有金刚石结构,实验测得其晶格常数a=0.543nm,试求其原子密度。



2)掺磷的N型硅,已知磷的电离能为0.04eV,求室温下杂质一半电离时费 位置和磷的浓度。



3)光均匀照射在6Ω·cmn型硅样品上,电子—空穴对的产生率为4×1021cm 寿命为8μS试计算光照前后样品的电导率。

4)试计算本征Si在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1350cm2

/v·s500cm2

/v·s当掺入百万分之一的As后,设杂质全部电离,试计算其电本征Si的电导率增大了多少倍?



5)若锗中施主杂质电离能Ed

=0.01eV,施主杂质浓度分别为Nd=31410

cm31710

cm

计算199%电离;290%电离;350%电离时温度各为多少?

注:N2(2πmn*KB)3/2

C=

h3

=2×1015(T3/2/cm3)



6)已知锗具有金刚石结构,实验测得其晶格常数a=0.566nm.试求其原子密度。



7)某掺施主杂质的非简并Si样品,试求EF=(EC+ED)/2时施主的浓度。(Nc5)) 解:n0=ND+



8)用强光照射n型半导体样品,假定光被均匀的吸收,产生过剩载流子, Gp,空穴寿命为τ 1.写出光照下过剩载流子浓度所满足的方程2求出光照下达到稳定状态时的过剩载流子浓度



9)对于晶格常数为2.5×1010

m的一维晶格,当外加电场为106V/m时,试 自能带底运动到能带顶

所需的时间。



10)在半导体锗材料中掺入施主杂质浓度Nd=1014cm-3受主杂质浓度Na=7×1013cm-3设室温本下本征锗材料的电阻率为ρi=60Ω·cm,假设电子和空穴的迁移率分别为µn=3800cm2/(V·s)µp=1800cm2/(V·s),若流过样品的电流密度为52.3mA/cm2,求所施加的电场强度。



11)假设Si中空穴浓度是线性分布,在4μm内的浓度差为2×1016cm

3,试计算 下空穴的扩散电流密度。



12)证明非平衡载流子的寿命满足△p(t)=p0e

t/τ

,并说明式中各项的物理意义。






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