2.10热处理工艺代号

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热处理工艺代号

工 艺 热处理 整体热处理 可控气氛热处理 真空热处理 盐浴热处理 感应热处理 火焰热处理 激光热处理 电子束热处理 离子轰击热处理 流态床热处理

退火 去应力退火 扩散退火 再结晶退火 石墨化退火 脱氢退火 球化退火 等温退火 完全退火 不完全退火

正火 淬火 空冷淬火 油冷淬火 水冷淬火 盐水淬火 有机水溶液淬火

盐浴淬火 压力淬火 双价质淬火 分级淬火 等温淬火 形变淬火 气冷淬火 淬火及冷处理 可控气氛加热淬火 真空加热淬火 盐浴加热淬火 感应加热淬火

１

代 号 500 510 500-01 500-02 500-03 500-04 500-05 500-06 500-07 500-08 500-10 511 511-St 511-H 511-R 511-G 511-D 511-Sp 511-I 511-F 511-P 512 513 513-A 513-O 513-W 513-B 513-Po 513-H 513-Pr 513-I 513-M 513-At 513-Af 512-G 513-C 513-01 513-02 513-03 513-04




流态床加热淬火 盐浴加热分级淬火 盐浴加热盐浴分级淬火

淬火和回火

调质 稳定化处理 固溶处理，水韧处理 固溶处理+时效 表面热处理 表面淬火和回火 感应淬火和回火 火焰淬火和回火 激光淬火和回火 电子束淬火和回火 电接触淬火和回火 物理气相沉积 化学气相沉积

等离子体增强化学气相沉积

离子注入 化学热处理

渗碳 可控气氛渗碳 真空渗碳 盐浴渗碳 固体渗碳 流态床渗碳 离子渗碳 碳氮共渗 渗氮 气体渗氮 液体渗氮 离子渗氮 流态床渗氮 氮碳共渗 渗其他非金属

渗硼 气体渗硼 液体渗硼 离子渗硼 固体渗硼 渗硅 渗硫 渗金属 渗铝

２

513-10 513-10M 513-10H+M

514 515 516 517 518 520 521 521-04 521-05 521-06 521-07 521-11 522 523 524 525 530 531 531-01 531-02 531-03 531-09 531-10 531-08 532 533 533-01 533-03 533-08 533-10 534 535 535（B） 535-01（B） 535-03（B） 535-08（B） 535-09（B） 535（Si） 535（S） 536 536（Al）




渗铬 渗锌 渗钒 多元共渗 硫氮共渗 氧氮共渗 铬硼共渗 钒硼共渗 铬硅共渗 铬铝共渗 硫氮碳共渗 氧氮碳共渗 铬铝硅共渗



536（Cr） 536（Zn） 536（V） 537 537（S-N） 537（O-N） 537（Cr-B） 537（V-B） 537（Cr-Si） 537（Cr-Al） 537（S-N-C） 537（O-N-C） 537（Cr-Al-Si）

３

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